過敏皮膚可通過保濕修復、避免刺激源、使用抗敏成分護膚品、口服抗組胺藥物、光療等方式進行抗敏修復。過敏反應通常由皮膚屏障受損、接觸過敏原、免疫系統異常、遺傳因素、環境刺激等原因引起。
1、保濕修復：皮膚屏障功能受損是過敏反復發作的關鍵因素。選擇含神經酰胺、膽固醇、游離脂肪酸等成分的保濕霜，能模擬皮脂膜結構，每日潔面后3分鐘內涂抹可提升角質層含水量。避免使用含酒精、香精的保濕產品。
萊茲 他克莫司軟膏
生產廠家：浙江萬晟藥業有限公司
功能主治：本品適用于因潛在危險而不宜使用傳統療法、或對傳統療法反應不充分、或無法耐受傳統療法的中到重度特應性皮炎患者，作為短期或間歇性長期治療。0.03%和0.1%濃度的本品均可用于成人，但只有0.03%濃度的本品可用于2歲到5歲的兒童。
用法用量：成人：0.03%和0.1%他克莫司軟膏在患處皮膚涂上一薄層本品，輕輕擦勻，并完全覆蓋，一天兩次。兒童：0.03%他克莫司軟膏，在患處皮膚涂上一薄層本品，輕輕擦勻，并完全覆蓋，一天兩次。本品應采用能控制特應性皮炎癥狀和體征的最小量，當特應性皮炎的癥狀和體征消失時應停止使用。本品不應采用封包敷料外用。
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2、避免刺激源：常見過敏原包括花粉、塵螨、化妝品防腐劑等。建議進行斑貼試驗明確致敏物質，日常選擇無香料、無色素、無致敏防腐劑的護膚品。洗衣時使用低敏洗滌劑，水溫控制在30℃以下。
3、抗敏護膚品：含積雪草苷、紅沒藥醇、馬齒莧提取物等抗炎成分的護膚品能緩解泛紅瘙癢。泛醇維生素B5可促進上皮細胞修復，建議選擇pH值5.5-6.0的弱酸性產品，配合冷藏濕敷增強鎮靜效果。
4、口服藥物：氯雷他定、西替利嗪等第二代抗組胺藥可阻斷H1受體，緩解蕁麻疹樣癥狀。嚴重者可短期外用0.1%他克莫司軟膏，避免長期使用糖皮質激素類藥膏導致皮膚萎縮。用藥期間需監測肝功能。
5、光療干預：窄譜UVB照射對特應性皮炎有顯著療效，每周2-3次可調節皮膚免疫反應。LED紅藍光治療儀家用版適合維持期護理，紅光波長630nm促進膠原新生，藍光415nm抑制痤瘡丙酸桿菌。
過敏修復期需保持室溫20-24℃、濕度50%-60%，穿著純棉衣物減少摩擦。飲食補充維生素C、歐米伽3脂肪酸，限制辛辣食物及酒精攝入。適度進行瑜伽、游泳等低強度運動，避免汗液刺激。持續瘙癢超過72小時或出現滲出液時應及時就診皮膚科。
